- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 317/22 - Radicaux substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons simples éthérifiés
Détention brevets de la classe C07D 317/22
Brevets de cette classe: 99
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ENI S.p.A. | 1241 |
7 |
| Ambrx, Inc. | 191 |
4 |
| Promega Corporation | 548 |
4 |
| Eisai R&D Management Co., Ltd. | 1304 |
4 |
| FUJIFILM Corporation | 27102 |
3 |
| Gfbiochemicals Limited | 51 |
3 |
| The Regents of the University of California | 18943 |
2 |
| Bayer Schering Pharma AG | 460 |
2 |
| Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 10902 |
2 |
| FMC Corporation | 910 |
2 |
| Gilead Sciences, Inc. | 1879 |
2 |
| Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | 663 |
2 |
| NOK Corporation | 2108 |
2 |
| Symrise AG | 1597 |
2 |
| Toyo Gosei Co., Ltd. | 111 |
2 |
| University of Connecticut | 790 |
2 |
| Melchior Material and Life Science France | 31 |
2 |
| Berlirem GmbH | 4 |
2 |
| Beijing Tienyi Lufu PharmaTech Co. Ltd. | 6 |
2 |
| NanoVation Therapeutics Inc. | 29 |
2 |
| Autres propriétaires | 46 |